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氧化镁(MgO)单晶基片

MgO

       氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。

产品主要技术参数 产品主要特点 主要用途


产品主要技术参数:

晶系 立方晶系Fm3m
晶格常数(Å A=4.130

熔点(℃)

2800

熔点(℃)

2800

密度(g/cm3

3.58

比热(cal/g℃)

0.27

莫氏硬度

5.5

热膨胀系数(/℃)

11.2x10-6

介电常数

ε= 9.65

热导率(卡/度 厘米 秒)

0.14  300°K

特点

可得到大尺寸,价格较低

生长方法

弧熔法

基片规格

尺寸: 10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
Ф15,Ф20,Ф1″,Ф2″等
厚度: 0.5mm,1.0mm
尺寸公差: <±0.1mm
表面抛光: 单面或双面
取向: <100>  <110>  <111>
晶面定向精度: ±0.5°
边缘定向精度: 2°(特殊要求可达1°以内)
斜切晶片: 可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
Ra: ≤5Å(5µm×5µm)


产品主要特点:

    由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

主要用途:

        用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

张富林

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