ZrO2
氧化锆（ZrO2）单晶基片是最早被开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2单晶需掺入钇（Y）以稳定其结构， 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在试验性薄膜制备工作中。氧化锆也是制作双晶基片（用于高温超导结构技术）的良好材料。
晶体参数:
熔点（℃）
2700
密度（g/cm3）
6.0
莫氏硬度
8-8.5
热膨胀系数（/℃）
10.3x10-6
介电常数
ε=27
特点
价格较低
生长方法
弧熔法
基片规格 ：
氧化锆主要优点：
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标准Nd掺杂浓度：
<内容空>
提供服务：
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